北京雷生强式科技有限责任公司自动高精度光学薄膜镀膜机采购项目公示
我公司拟采购1套自动高精度光学薄膜镀膜机详情如下：
1、名称：自动高精度光学薄膜镀膜机
2、数量：1套
3、设备构成：
自动高精度光学薄膜镀膜机包括真空室、真空排气控制系统、加热控制系统、真空测定和压力控制系统、基板旋转系统、蒸发源系统、离子源辅助蒸发系统、膜厚监控系统、镀膜控制系统、真空控制系统及辅助系统。
4、主要技术指标要求
4.1 真空室
4.1.1基本要求
1）真空室外形：前开门箱式结构
2）真空室尺寸：直径1300mm，高度1610mm
3）真空室材料：不锈钢SUS304
4）真空室冷却方式：不锈钢管水冷式
4.1.2主要接口
1）1个观察基片窗口（配有紫黑色防强光玻璃）
2）2个观察蒸发源窗口（配有紫黑色防强光玻璃）
3）1个反射式光学监控系统接口（安装在真空室顶部）
4）1个离子源接口
5）1个离子源中和器接口
6）2个电子枪坩埚接口
7）1个减压阀接口
4.1.3挡板接口
1）2个电子枪挡板接口（安装在真空室底部）
2）1个离子源挡板接口（安装在真空室底部）
3）2个膜厚校正板接口（安装在真空室两侧）
4.1.4规管接口
1）1个测量配管真空的规管接口
2）1个测量真空室高真空的规管接口
3）1个测量真空室粗真空的规管接口
4.1.5备用接口
1）2个Φ70ICF接口
2）4个KF40接口
3）1个KF25接口
4）1个透过式光学厚度监控系统法兰（在真空室底部）
5）1个Φ200mm法兰
4.2 真空排气控制系统
4.2.1基本要求
1）粗抽真空：从大气压到50Pa，8min以内
2）极限真空：低于7.0E-5Pa
3）恢复真空：15min之内达到1.3E-3Pa
4）漏气速率：低于9.0E-5Pa・m3/s
4.2.2排气系统构成
1）低真空排气系统要求包括1个干式泵、1个罗兹泵
2）高真空排气系统要求是无油真空系统，包括2个冷凝泵、2个冷凝泵压缩机、2个冷阱机构、2个冷阱机构压缩机、1个冷阱机构自动温调系统、1个冷凝泵自动再生系统
3）阀门要求包括2个高真空阀门、2个辅助阀门、1个低真空阀门、1个慢低真空阀门、1个充气阀门、1个慢充气阀门、3个冷凝泵再生时使用的氮气充气阀门
4.3 加热控制系统
4.3.1基本要求
1）最大设定温度：350℃
2）加热40min后，能到达300℃
3）温度均匀性：300±10℃（加热40min后）
4.3.2基板加热机构
基板加热机构要求通过PID 控制，使用镍铬电热丝加热，输出功率为21kW，需3个带有水冷进出口接头的工件盘加热密封法兰、1个K型热电偶、1个温度指示调节计
4.3.3真空室侧部加热机构
真空室侧部加热机构要求通过PID控制，使用镍铬电热丝加热，输出功率为9kW，最高加热温度为150℃，需配有1个K型热电偶和1个温度指示调节计
4.4 真空测定和压力控制系统
4.4.1复合真空计
复合真空计要求由以下构成：
1）2个真空计
2）1个测量配管真空的Pirani规管
3）2个测试冷凝泵真空的Pirani规管
4）1个测量真空室粗真空的B-A/Pirani复合规管
5）1个气体导入控制使用，测量真空室高真空的Penning真空测定子
4.4.2自动压力控制系统（APC）
自动压力控制系统（APC）要求工作压力范围：6.6E-2Pa～3.0 E-3Pa，需配有1个气体导入阀门和1个气体流量计
4.5 基板旋转系统
4.5.1基板旋转机构
基板旋转机构要求采用光学监控和水晶控制一体式，通过中心驱动，平面行星式，旋转速度调整范围：10～50rpm
4.5.2行星盘
行星盘材料：不锈钢
4.6 蒸发源系统
4.6.1电子枪/电源
1）电子枪要求包括2个电子枪头（10kW，270°偏转，灯丝Φ0.55mm）、1个电源、2个外部控制器、1个双电子枪同时使用控制器、1个自动灭弧恢复系统、2个接线柱
2）主要性能：电压要求能连续可变，工作范围：4～-10kV；电流要求在工作电压为-10kV下仍连续可变，工作范围：0～1.0A
4.6.2水冷环形铜坩埚台
1）尺寸：φ302（外径）×φ228（内径）×H15mm（高）
2）驱动方式：指定速度转动，转速范围 5～120 min/转
3）控制方式：旋转模式与FIX模式
4.6.3水冷24点式铜坩埚台
1）坩埚尺寸：外径φ40×H17mm（外高）
2）控制方式：定位编码器
4.6.4电子枪挡板
尺寸：φ260mm±5mm
4.7 离子源辅助蒸发系统
4.7.1射频离子源
1）栅网尺寸：17cm
2）最大射频功率：1000W@13.56MHz
3）束电压：100V～1500V
4）最大束电流：1200mA
5）离子流密度分布：±10%以内
6）加速电压：100V～1000V
7）标准导入气体量：氧气50sccm或氩气30sccm
4.7.2射频中和器
1）最大射频功率：150W@13.56MHz
2）最大中和电流：2400mA
3）标准导入气体量：氩气8sccm
4.7.3电源
电源要求由1个控制器、1个直流发生器、1个中和器直流发生器构成
4.7.4射频电源
射频电源要求由1个射频电源、1个射频匹配器、1个中和器射频电源、1个中和器射频匹配器（手动式）构成
4.7.5 3路气体导入系统
3路气体导入系统要求包括如下：
1）1个流量控制器
2）1个离子源使用的氧气导入机构，最大工作流量为100sccm
3）1个离子源使用的氩气导入机构，最大工作流量为50sccm
4）1个中和器使用的氩气导入机构，最大工作流量为20sccm
4.7.6离子源挡板
尺寸：φ290mm±5mm
4.8 膜厚监控系统
*4.8.1光学膜厚监控
光学膜厚监控要求由反射式膜厚计、60点监控片旋转机构、监控片加热控制机构构成，实现光学膜厚自动镀膜控制
4.8.1.1反射式膜厚计
1）波长范围：350～1100nm
2）波长精度<±1nm
3）波长分解能：标准6.5nm±1.0nm，546.1nm处
4）波长重复性：±0.25nm
5）稳定性<±0.1%/h（点灯后60 min，环境温度稳定，波长500nm）
6）反射式膜厚计要求包括1个反射式光纤系统、1个投光器、1个投光器电源、1个分光仪、1个数据处理器、1个分光测定程序
4.8.1.2 60点监控片旋转机构
60点监控片旋转机构要求能装载并固定监控片，能使监控片准确旋转到下一个监控位置
4.8.1.3监控片加热控制机构
监控片加热控制机构要求通过PID控制，使用镍铬电热丝加热，输出功率为0.24kW，最高加热温度可达300℃，需配有1个K型热电偶和1个温度指示调节计
4.8.2水晶膜厚监控
水晶膜厚监控要求由1个控制仪和1个6片旋转式水晶膜厚传感器构成，实现晶振控制成膜速度及物理厚度，可实现自动镀膜控制
4.9 镀膜控制系统
镀膜控制系统要求由自动镀膜软件、计算机、液晶显示器、PC与PLC共用的UPS系统构成；自动镀膜软件要求包含熔料功能、镀膜功能、薄膜设计数据读入功能、过程数据记录功能；薄膜设计数据读入功能能够读取Essential Macleod膜系设计软件中的Runsheet数据
4.10 真空控制系统
真空控制系统要求由电器控制柜、触摸式屏幕、程序系统、遥控控制器构成；程序系统要求包含开关系统功能、排气操作功能、镀膜操作功能、触发开关功能、定时设定功能、警报表示功能；遥控控制器要求包含工件架旋转、挡板、膜厚校正挡板、坩埚回转等
4.11 辅助系统
4.11.1膜厚校正挡板机构
膜厚校正挡板机构要求在平面行星盘正下方
4.11.2不锈钢防污板
不锈钢防污板要易于安装和拆卸
4.11.3冷却水系统
冷却水系统要求包括供水和排水管道线、电磁阀门和手动控制阀门、水流量开关等
4.11.4压缩空气系统
压缩空气系统要求包括调节阀门、过滤器、压力表、管路等
4.11.5电源稳压系统
电源稳压系统要求包括稳压电源柜、电线电路等
4.12 安全防护与附件备品
*4.12.1安全保护回路和自锁保护
1）压缩空气压力低于0.35Mpa一定时间后，排气系统所有的阀门将自动关闭，同时报警
2）冷却水流量低于正常值一定时间后，冷却水流量相关的系统将自动关闭，同时报警
3）发生断电或掉电时，除了冷却水主阀门外的所有阀门需自动关闭，且重新通电时无自动恢复功能；为确保安全，停电5min后自动开启充气阀，真空腔自动充气，停止10min后，自动向CP内充入氮气；CP的温度维持在20K以上连续30min时，排气系统须自动进行再生
4）具有漏电保护功能
5）当高真空阀门打开时，电子枪和电离真空规才能正常工作
6）设备发生异常时，报警灯和报警喇叭同时启动，在触摸控制屏中显示异常原因
7）在主电控柜前面板、电子枪电控柜旁边和排气系统旁边均有紧急按钮
4.12.2附件
1）操作说明书1套
2）标准工具1套
3）踏台1个
4）离子源标准维护用工具1套
4.12.3备品
1）防污板1套
2）电子枪挡板2个
3）离子枪挡板1个
4）铜坩埚24个
本项目经两次公开招标失败，本次拟采用单一来源采购；
本项目拟采购供应商为广州法发科真空技术有限公司、地址：广州市白云区钟落潭镇广从六路7号4栋201房、统一社会信用代码：91440101MA5AUA655E、法定代表人：刘兰华；
本项目公示期为2022.06.08，12：00-2022.06.13，12；00。
本项目公示期内如有问题可联系：姓名：刘浩，电话：15810945149，联系地址：北京市朝阳区酒仙桥路2号院中电科11所内。
特此公示
2022年6月8日
广州法发科真空技术有限公司 91440101MA5AUA655E
